全光譜顯微鏡

簡要描述：UVM-1™全光譜顯微鏡的設計是將紫外-可見-近紅外成像技術和顯微技術相結合，能夠實現(xiàn)紫外-可見-近紅外的成像。具有前沿技術的結合CRAIC創(chuàng)新設計的光學技術，用戶僅用一臺顯微鏡就能在整個寬光譜范圍內完成顯微成像，無論是高分辨能力，還是光譜成像能力。

產品型號：UVM-1™
廠商性質：代理商
更新時間：2024-09-23
訪問量：1561

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詳細介紹

UVM-1™全光譜顯微鏡的設計是將紫外-可見-近紅外成像技術和顯微技術相結合，能夠*的實現(xiàn)紫外-可見-近紅外的成像。具有前沿技術的UVM-1™全光譜顯微鏡結合CRAIC創(chuàng)新設計的光學技術，用戶僅用一臺顯微鏡就能在整個寬光譜范圍內完成顯微成像，無論是高分辨能力，還是光譜成像能力。

UVM-1™全光譜顯微鏡具有*的多功能系統(tǒng)設計，能夠允許用戶只在一臺顯微鏡上獲得紫外-可見-近紅外的高分辨率成像和分析結果。紫外顯微鏡對半導體內微量異物有很高的靈敏性，相比標準的顯微鏡，具有更強大的的能力測量微量變化。近紅外顯微鏡能夠無損的、有選擇性的對硅晶片設備內部的電子電路進行精確的成像,這些應用知識是其眾多應用領域的一小部分。 UVM-1™也可與拉曼一起提供給您更多的功能。

UVM-1™ 易于使用<strong>全光譜顯微鏡</strong>

全光譜顯微鏡技術參數(shù)參數(shù)

顯微鏡光譜范圍	200-2500nm
熒光光譜法范圍	300-1000nm
探測器	CCD (UV-vis) /InGaAs (NIR)
可見光成像	500萬(200-2500nm)
紫外成像	200-400nm
近紅外成像	900-1700nm
高分辨率UV成像	可選
高分辨率NIR成像	可選
UV-Visible-NIR物鏡	可選
TE冷卻固體傳感器	可選
顯微鏡自動化	可選

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